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光譜分析法Spectroscopy
1.電磁輻射 (Electromagnetic Radiation)
- 波動性 (wave nature): 由電波及垂直方向之磁波組成
- 光速 : c = 3.00 x 108 m/s (真空中)
- 光子 : E = hν (h = 6.62 x 10-34 J-s)
- 輻射能 : P = hν (J/s)
- 強度:I = power per solid angle
- 波長及頻率: λ = c/ν
- 波數 (wavenumber): = 1/λ (cm-1)
- 單色 (monochromatic): 具有窄波長分布之輻射線
數學式 y = A sin(2πνt + φ) - 多色 (polychromatic): 具有寬波長分布之輻射線
疊加 y = A1 sin(2πν1t + φ1) + A2 sin(2πν2t + φ2) + .....
Fig. 6-4 正弦波的疊加:實線波為二虛線波疊加而成。
節拍 (beat) Pb = 1/Δν = 1/(ν2 - ν1) (二波幅相同,頻率不同之波動的疊加)
Fig. 6-5 不同頻率但相同振幅之二波的疊加,會產生節拍。
- 繞射 (diffraction):光通過狹縫而發生干涉現象,形成圖紋。
Fig. 6-7 通過狹縫之波動 - 干涉 (interference): 當二波動重合時,若二者同相,則其波幅增強,為建設性 (constructive) 干涉,否則重合波幅相消,為破壞性
(destructive) 干涉。
Fig. 6-8 狹縫對單色光之繞射現象 - 折射
(refraction):光速在不同介質中改變,因而改變光線之方向。
折射率:ni = c/vi (λ dependent)
Snell's law:sinθ1/sinθ2 = (n2/n1) = (v1/v2) - 分散 (dispersion):折射率隨波長而變化,而使光線向各方向發出。
- 反射 (reflection):當光線經過不同折射率之界面時,部分之光線折回原介質。
反射率 Ir/I0 = (n2 - n1)2/(n2 + n1)2 - 偏極光 (polarized beam):
輻射線之電場僅在同一平面上波動,而磁場則在同一垂直面上波動。
Fig. 6-12 光之偏極化
2.輻射光譜與物質 (Electromagnetic Spectrum and Matters)
Fig. 6-3 電磁輻射光譜的區分
類別 | 分析法 | 原理 |
---|---|---|
無線電波譜 | NMR | 外加磁場下之核子自旋配向 |
微波譜 | ESR | 外加磁場下之電子自旋配向 |
紅外光譜 | IR | 分子振動(伸縮、彎曲) |
可見及紫外光譜 | VIS/UV | 價電子在能階間之躍遷 |
X-光譜 | X吸收光譜分析,XPS | 內層電子在能階間之躍遷 |
3.核子自旋 (Nuclear Spin)
| 在外加磁場中進動之磁力矩 |
4.電子自旋 (Electronic Spin)
- 電子電荷之自轉,產生一磁場及磁力矩,而電子之公轉亦產生一磁場及磁力矩。故總磁力矩為此二磁力矩之向量和。
- 迴磁比 (Gyromagnetic Ratio) g:為總磁力矩與自旋磁力矩之比,造成各原子之特定譜線。
- 外加磁場 H0 導致進動,有二能階:Ms = +1/2 and -1/2,能量差為
ΔE = hν = gβNH0 (βN : Bohr magneton) - 微波輻射可導致躍遷。
- 共振頻率 : ν (MHz) = 2800H0 (Kilogauss)
5.分子能階 (Molecular Energy Level)
- 此一分子光譜牽涉到高能之電子躍遷及低能之分子振動與轉動。
- 由分子振動與轉動可得知有關分子之結構。
- 螢光 (fluorescence) 或燐光
(phosphorescence) 會隨激發電子之回歸狀態而發生。
Fig. 6-20 螢光有機分子的能階示意圖
6.振動能階 (Vibrational Energy Level)
- 分子中各原子之相對振動能量較電子能階小一數量級。
- 具有較小簡約質量 (reduced mass) 之原子的振動頻率較大,故牽涉到氫原子的振動頻率較高,而雙鍵與三鍵之頻率為單鍵之二到三倍。與鄰近原子之互動,以及共振結構、氫鍵、環狀結構等均會改變頻率。
- 多原子分子具有振動頻率之諧振 (overtones),其頻率約為基頻 (fundamental frequency) 之整數倍。基頻與諧振之組合,所形成之複合譜帶,為分子之特徵。通常,諧振與譜帶之強度較基頻微弱。
- 基頻之強度正比於偶極隨分子變形而變化的速率之平方。
7.拉曼效應 (Raman Effect)
- 雷力散射 (Rayleigh Scattering):當光照射一較波長小之粒子時,其電子隨入射光震盪,產生相同頻率的輻射波,並向各方向發射。(類似彈性碰撞)
- 若粒子的極性有變動時,Rayleigh 散射光之強度亦隨之變動。
- 拉曼效應:當分子之極性因振動而改變時,振動頻率會疊加在入射頻率上。散射光含有三種頻率:入射頻率、及± Raman-活化振動頻率。
- 拉曼光譜之光源為單色強光,例如雷射。其入射頻率不必等於分子之吸收頻率。經由照射改變分子之偶極 (dipole),而導致分子振動能階之轉換。
- 機制:光子與分子之碰撞,約有百萬分之一為非彈性碰撞。此時,入射光子將分子提升至準激發態 (quasi-excited state),但低於第一激發態,然後向除了入射方向外之各方向輻射能量。較低頻率輻射 (Stokes lines) 係由於回到振動量子態 (vibration quantum state)。若分子原本已在振動能階,該振動能會加入輻射,因而增加輻射頻率 (anti-Stokes lines)。低頻輻射之強度較強。
- Raman 光譜:形似於一般紅外光譜,但若分子具反映中心 (center of inversion),則光譜有異。同核雙原子分子 (homonuclear diatomic molecule) 由於可被極化,因而有 Raman 振動光譜。對於具有對稱中心 (center of symmetry) 之分子,Raman 光譜可提供有關對稱振動,以及反對稱振動 (antisymmetric vibration) 之紅外吸收 (IR absorption) 之資訊。
8.原子能階 (Atomic Energy Level)
- 原因:因外層電子之能階躍遷所生之吸收與發射,輻射能為間續 (discrete) 能量。
- 主要貢獻之能量具有主量子數 n = 1,2,3,...,而游離能階為 n = ∞
- 總軌域角動量 (orbital angular momentum) 為個別電子 (l = 0,1,2,3...) 軌域角動量之向量和,標以 L = 0,1,2,...。
- 總角動量 (angular momentum) 為電子軌域角動量及電子自旋角動量 (spin angular momentum) 之各種組合之合向量。由於微小之差異,產生了多重譜線 (multiplets)。
- 選擇法則 (Selection rules):由經驗或量子計算所得的可能躍遷,以容許 (allowed) 或禁止 (forbidden) 稱之。 Δl = ±1, Δj = 0, ±1;j = l ±1/2 為內量子數 (inner quantum number);j = 0 → j = 0 為禁止。
9.X-光能階 (X-Ray Energy Level)
- 原因:最內層電子之能階躍遷。僅有少數電子在這些內電子層 (shell)。K 層 (n = 1) 僅有一層;L 層 (n = 2) 具有 3 子層 (sublevel):LI, LII, LIII;而 M 層 (n = 3) 則有 5 子層。
- 光譜頻率關係式: (Rydberg方程式)
其中,R 為 Rydberg 常數;Z 為原子序;σ 為遮蔽常數 (shielding constant) (~1 for K 電子). - 內層電子之吸收能量至少等於游離能。
- X光之發射係由於外層電子落到空的內層軌域(因內層電子吸收能量後游離,產生空軌域)。
10.光譜定量分析
- 輻射功率 (radiant power) P:單位面積每秒之輻射能。
- 電子信號 S 與 P 之關係:S = kP + kd
其中,k 為常數,kd 為偵檢器在無輻射下之暗電流 (dark current)信號。
a. 發射、發光及散射光譜
- 信號與濃度之關係: S = k'c
其中,k' 為常數,可用標準樣品測得。
b. 吸收光譜
- 根據通過試樣前後之功率 P0、P 作定量分析。
- 穿透率 (transmittance) T: T = P/P0
- 吸收率 (absorbance) A: A = - log T = log(P0/P)
- Beer-Lambert 定律:描述濃度 c 與吸收率 A 之關係。
- 對於重量濃度, A = abc 其中a為吸光係數(absorptivity),單位為L/g-cm;b為光徑長度,單位為cm;c單位為g/L。
- 對於莫耳濃度, A = εbc 其中ε為莫耳吸光係數(molar absorptivity),單位為L/mol-cm; c單位為mol/L。
- Beer定律僅適用於一定範圍之濃度。濃度太高會造成信號低於偵檢極限。
c. 反射光譜
- Kubelka-Monk 理論:描述濃度與 K/S 值之關係。
- 反射率(reflectance) R: R =
Pr/Pi
其中Pr與Pi分別為反射光與入射光之能量。 - K/S值: K/S = (1 - R)2/2R
- 與混合物各成分濃度之關係: K/S = (K/S)s + Σ
ciFi(R)
其中之(K/S)s為基材之值,而Fi為第i成分之加成函數。
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