Saturday, September 15, 2012

在石墨烯中,能量與波數空間的線性關系意味著載流子的有效質量實際上為零,電子和空穴的傳輸是彈道式的,

對於小能級

E來說,

石墨烯中的色散與電子和空穴是成線性關系的,並且有

一個很簡單的公式

E=±h|k|vF,其中,vF是費米速率,

k=ik

x+j ky,代表著電荷載流子的波數(wavenumber)。

這個線性色散關系是由在被稱為狄拉克點(

Dirac point

處相交的兩條線組成。在遠離狄拉克點處,載流子的運

動是單極性的(

Unipolar),而在狄拉克區,則是雙極

性的,會產生強烈的復合(

recombination)。

線性色散關系與光子在真空中的傳播類似,但這個

關系的意義卻是極不相同的。在石墨烯中,能量與波數

空間的線性關系意味著載流子的有效質量實際上為零,

因此,電子和空穴的傳輸是彈道式的

長度小於自由行程的話,則在器件中沒有任何碰撞,在

這種情況下,載流子表現為波而不是粒子。這些波是慢

波,按照費米速率

vF=106m/sc/300的速度傳播。相反,

光子在真空中是以光速

c傳播的。電子和電磁波彈道傳輸

之間的相似性是常用於電子學,光電子學,和電磁學等

諸多領域中的一個很豐富的概念

[13]

December 2010 IEEE microwave magazine 81


現在,電子產品正朝著更快,更小,效率更高,且具有

成本效益的方向發展。為了做到這一點,在各種技術中

對現有材料的使用已經達到了極限程度。正因如此,獵

取具有全新的增強的特性,並且與現有工藝過程高度兼

容的新型材料正變得越來越重要。 在這個艱難的探索中,

石墨烯通過被証實的結果而表明它是一個具有代表意義的

主角,它似乎可以滿足許多需求。它的特征是卓越的電氣

和機械性能,同時與傳統的制造技術也是非常兼容的。因

次,石墨烯可能會成為一種關鍵的可用材料,為具有與

前幾十年硅基材料類似的成果和突破的新一代高速納

米級電子產品鋪平了道路。本文將試圖涵蓋這種令人

神往的材料的演進過程,從早期的觀察開始,直到可以

預見其光明未來的實際微波應用。


石墨烯是什麼呢?

石墨烯是厚度僅為

0.34nm 的單層石墨。它是由處於SP2

雜化狀態下的碳原子按照每個碳原子與其它三個碳原子

以共價鍵方式相鍵合而組成的。因此,石墨烯是具有

蜂窩晶格的一種平面納米材料,而蜂窩晶格是由兩

個互相貫通的三角形亞晶格所組成的

[1]。在許多碳基

材料中都可以發現石墨烯。一個最簡單的例子便是石墨,

它是由大量的單層石墨烯一層一層堆垛起來的。另一個例


用於微波

的石墨烯



Mircea Dragoman, Dan Neculoiu,

Daniela Dragoman, George Deligeorgis,

G. Konstantinidis, Alina Cismaru,

Fabio Coccetti, Robert Plana




__________________________________________________________________________________


Mircea Dragoman (mircea.dragoman@nano-link.net) and Alina Cismaru are with the National Institute

for Research and Development in Microtechnology (IMT-Bucharest), P.O. Box 38-160, 023573 Bucharest,

Romania. Dan Neculoiu is with Politehnica University of Bucharest, Electronics Dept., 1-3 Iuliu Maniu Av.,

061071 Bucharest, Romania. Daniela Dragoman is with the University of Bucharest, Physics Dept., P.O. Box

MG-11, 077125 Bucharest, Romania. George Deligeorgis, Fabio Coccetti, and Robert Plana are with LAAS

CNRS, 7 Avenue du Colonel Roche, 31077 Toulouse Cedex 4, France. G. Konstantinidis is with the Foundation

for Research & Technology Hellas (FORTH) P.O. Box 1527, Vassilika Vouton, Heraklion 711 10, Crete, Greece.



IEEE microwave magazine December 82 2010



1 基於石墨烯的場效應-晶體管式結構。

子是單個碳納米管(

CNT),它僅僅是一個卷起來的石

墨烯片而已。

石墨烯是一個二維(

2-D)晶體並且其本身還是二

維帶電粒子氣體。在許多器件中,石墨烯是噴鍍到在一

個摻雜硅基片上生長的通常為

300nm的二氧化硅(SiO2

層上的。在這種構架下,硅基片用作背柵(

backgate),

它可以移動石墨烯中的費米能極水平, 並且產生


n = ε

􀬴ε􀭢

V

􀭥

􀵗te ≅ αV

􀭥的表面電荷密度,其中ε􀬴是空氣的介

電常數,

ε􀭢SiO2的介電常數,tSiO2層的厚度,Vg

柵極電壓。

柵極誘導載流子(

Gate-induced carrier)可以看作是

電摻雜造成的結果,與通常用在半導體器件中的化學摻

雜類似。因此,在石墨烯中,電子和空穴是通過向柵極

施加一個正電壓或一個負電壓而產生的。在向

Si/SiO2

構上噴鍍石墨烯之后,在石墨烯上印刷出電極來實現一

些特定的器件。圖

1便示出了一個基於石墨烯的類似於

場效應管(

FET)的結構。雖然這個結構非常簡單,但

它可以用於許多石墨烯器件當中。

石墨烯是2004年首次被分離出來的,是通過一個膠

帶將高度取向的熱解石墨( highly ordered pyrolytic

graphite -HOPG)進行分離,將膠帶移去后,在S

i/SiO2

釋放出石墨薄片[2]。HOPG是由石墨烯在垂直方向上排

列而成的一個堆垛或三維(3-D)結構。剝離出來的

HOPG碎片被巧妙地控制,使其直接落到S

i/SiO2界面上,

並且由於范德華力(Van der Waalls)的作用而無法在

S

i/SiO2上移動。這看起來似乎是一種很初級的獲取石墨

烯的方式,然而,到目前為止,這種方法被成功地用來

獲取尺寸直到1mm的具有很低缺陷率的石墨烯薄片。

上述所介紹的制造方法還伴隨著另一個與石墨烯可

見度相關的重要發現[3]。取決於S

iO2的厚度[4],如果入

射白光通過一個綠色,藍色,或其它顏色的過濾器,石

墨烯在光學顯微鏡下是可見的。在這種條件下,採用一

個簡單的顯微鏡便可以看見石墨烯,如圖2(a)所示。目

前,雖然有眾多方式來觀察石墨烯[5], 但是單層石墨烯

或由一層一層的石墨烯所組成的,如雙層,三層,或多

層石墨烯等其它納米結構,是可以通過顯微鏡利用光反

射和光學光譜對比而將它們很好地區分開來。甚至能夠

以極高的准確度來確定它們的厚度[6]。

從採用膠帶進行的石墨烯機械剝離開始,僅僅隻過

了幾年,在金屬或半導體基片上生長石墨烯的方法已經

演進到一種尖端的化學蒸汽噴鍍(CVD)技術了[7]。目

圖2 石墨烯共面波導(a)石墨烯(Graphene Industries 公司

友情提供),(b) 石墨烯共面波導,(c)不同直流偏置下的

散射參數,以及 (d) 可以直到65GHz的等效電路。 [(b)

和 (c) 是經過G. Deligeorgis, M. Dragoman,D. Neculoiu, D.

Dragoman, G. Konstantinidis, A. Cismaru,以及R. Plana的

同意而轉載的, Appl. Physics Letters 95, no. 7, pp.

073107/1-3,Aug. 2009, Copyright 2009, American Institute

of Physics.]


December 2010 IEEE microwave magazine 83


前主要有四種方式來制備石墨烯(見表1)。第一種方

法是採用膠帶對HOPG進行機械剝離,產量較低,但卻

是至今為止質量最高的方法,第二種方法是在碳化硅

(S

iC)基片上外延生長石墨烯,這種方法必須要加熱到

高於1000

0C以上才能實施 [8]。第三種方法是基於石墨烯

氧化物(GO)基礎上的,將石墨烯氧化物溶入肼溶液中,

然后噴鍍在不同的基片上,成為均勻的含有單層或幾層

石墨烯的薄膜[9]。最后一種在所有方法中從產品和可重

復性角度上講似乎是最有前途的方法是,採用CVD技術

而生成的石墨烯。在這種技術的基礎上,人們同樣制作

了基於石墨烯的微機電系統(MEMS),並對其進行了

測試[10] 。CVD技術被成功地使用在從卷筒到卷筒

(roll-to-roll)的制作方式中,在柔軟的銅基片上制作出

76.2-cm(30-in)的石墨烯薄膜,從而可用於柔軟性電子

產品的應用中,如觸摸式顯示器,此時石墨烯被用作透

明電極[11]。

可以用丙酮和異丙醇等溶劑來清除石墨烯而不會對

其造成損傷。然而,必須要避免使用超聲波振動和強腐

蝕性清潔劑。此外,用於半導體工藝的光刻或粒子刻版

技術也同樣可以用於石墨烯器件。石墨烯具有驚人的物

理特性, 通常被稱作“ 奇跡材料” ( The wonder

material)。在不同器件上所測得的室溫下載流子的遷移

率為8,000-10,000cm

2v-1s-1,但在懸浮式石墨烯中可以高

達200000cm

2v-1s-1[12] 。彈道式載流子傳輸( ballistic

carrier transport)的平均自由行程為300-500nm,而石墨

烯的電阻率極大地取決於柵極電壓。對於小能級E來說,

石墨烯中的色散與電子和空穴是成線性關系的,並且有

一個很簡單的公式E=庾|k|v

F,其中,vF是費米速率,

k=ik

x+j ky,代表著電荷載流子的波數(wavenumber)。

這個線性色散關系是由在被稱為狄拉克點(Dirac point)

處相交的兩條線組成。在遠離狄拉克點處,載流子的運

動是單極性的(Unipolar),而在狄拉克區,則是雙極

性的,會產生強烈的復合(recombination)。

線性色散關系與光子在真空中的傳播類似,但這個

關系的意義卻是極不相同的。在石墨烯中,能量與波數

空間的線性關系意味著載流子的有效質量實際上為零,

因此,電子和空穴的傳輸是彈道式的,即,如果器件的

長度小於自由行程的話,則在器件中沒有任何碰撞,在

這種情況下,載流子表現為波而不是粒子。這些波是慢

波,按照費米速率v

F=106m/sc/300的速度傳播。相反,

光子在真空中是以光速c傳播的。電子和電磁波彈道傳輸

之間的相似性是常用於電子學,光電子學,和電磁學等

諸多領域中的一個很豐富的概念[13]。

此外,石墨烯被認為是已知材料中最硬的材料,具

有340N/m的彈性硬度(elastic stiffness)和1.5TPa的楊氏

模量[14]。表2總結了令人印象深刻的石墨烯的電氣和機

械性能。接下來要介紹我們如何利用這些特性來推動微

波器件的進步。


基於石墨烯的微波器件

石墨烯是在晶體管[15],自旋閥器件[16],光電探測器

[17],單-電子晶體管[18],和太陽能電池領域中有關納

米電子學的熱門話題,然而,直到現在為止,它在微波

應用領域中的工作還鮮有報道。原因是,直到100GHz的

微波器件和電路是採用GaAs,SiGe,InP或高阻型硅來

制作的,這些都是在半導體制作廠家中所實施的成熟技

術。因此,微波器件和電路是基於上述半導體技術之上

的,而這些技術反過來也在快速地得到改善。

因此,雖然碳納米管(CNT)器件已經有了長足的

進步[20],甚至近來已經有人演示了納米無線電[21],但

諸如納米粒子,納米導線,以及CNT這樣的納米材料在

微波領域中並不普遍。微波領域內納米材料,特別是

CNT缺失的另一個原因是,它們的阻抗大於10k

Ω,因此,

這些材料很難與微波電路設備所要求的50

Ω相匹配。將

CNT阻抗減小到50

Ω的一個解決方案是採用介電電泳

(dielectrophoresis)來將數以千計的CNT並聯排列,但

這種過程的重復率很低。因此,石墨烯也許可能成為替

代由數以千計,數目很難控制的納米管所組成的單壁

CNT薄膜的可行性方案。例如,在文獻[23]中,人們制

作了一個噴鍍在石墨烯上的共面波導(CPW),可以在

直到65GHz下都具有共面波導的特性,文獻[24]中,人

們開發了這個CPW的等效電路。圖2(b)展示了CPW石

墨烯器件。

Graphene Industries公司所制備的一個單層石墨烯,


IEEE microwave magazine December 84 2010


是放置在從n-摻雜硅基片上生長的一個300nmS

iO2層上的。

這個單層是可以通過光學方式來加以識別的,如圖2(a)

所示。一個石墨烯薄片對制作完整的CPW圖形來說是太

小了,由於實驗設備所要求的阻抗,即50

Ω,以及

150μ的探頭尖之間的間距,CPW的尺寸不能再小了。

為了解決這個問題,在石墨烯區,我們刻制了CPW的三

個電極以覆蓋整個的石墨烯[見圖2(b)],並且在石墨烯區

域外,我們將電極在SiO2基片上放大以滿足探頭尖間距

的要求。制作CPW的技術相當復雜,它涉及了不同噴鍍

技術和電子束刻版技術的組合。CPW石墨烯的主要幾何

尺寸為:中心電極寬度為4.3μ﹔中心電極與接地電極

的距離為w=1.7μ﹔接地電極的寬度為8.4 μ。石墨烯

CPW的總長度大約為80 μ。S參數的測量結果顯示出它

們會隨著通過中心電極和接地電極而施加到CPW的直流

電壓而發生移動。所施加的電壓是從-2.5V 到+2.5V(正

極是加在CPW的中心導體上的)。從S參數的這些測量

結果中[見圖2(c)],人們提取了由一個電阻R 和與之相並

圖3 Aachen Group 公司的石墨烯FET晶體管(圖1來源於

文獻[27])。

聯的電容C所組成的等效電路。我

們已經發現,這個電阻可以按照其

與所施加的直流電壓的關系而在

30-300

Ω的范圍內進行調諧。而電

容大約是1 pF。這些結果在直到

7GHz的頻率下都是有效的,這是

因為,在更高的頻率下,摻雜硅基

片的損耗變得很高。最近,我們已

經用高阻性基片來替代摻雜硅基片,

在類似的偏置電壓范圍內, 當調

諧電阻在50

Ω左右時,可在直到

65GHz下得到上述結果。然而,這

一次,當偏置電壓在-6V到6V之間

時,電阻是在25-42

Ω的范圍內變動,

而電容則幾乎保持不變, 大約為

60fF [見圖2(d)]。 現在, 等效電路

在15-65GHz范圍內都是有效的[23]。

石墨烯50

Ω阻抗是由其物理特性決定的,更准確地

說,在二維氣體狀態(2-D gas)的石墨烯中,電導率是

量子化的(有一個有限的最小值)[25],而在一個一維

氣體狀態的CNT中,電導是量子化的(按步長來變化),

因此6.2k

Ω的電阻步長是不能減小的。正因為如此,將

CNT堆垛(Packing)成高密度陣列或束捆已經成為旨在

降低電氣互連阻抗的一個重要的研究課題。

由於石墨烯可以調諧到50

Ω阻抗,因此它是可以在

微波應用中使用的納米材料,明白了這一點后,我們已

經開始構建一個射頻(RF)石墨烯晶體管[26]。目前,

石墨烯主要是用於FET器件。從原理上講,第一種石墨

烯FET已經用作摻雜基片的柵極,如圖1所示,但直到目

前為止,這種頂柵(Top-Gate)構架是人們所採用的主

要的構架方式。石墨烯是FET的溝道,在兩個電極處終

止:源極(S)和漏極(D)。源極和漏極之間的電流是

由被一層介電材料與石墨烯相分離的柵極電極來控制的。

在我們所描述的第一種石墨烯晶體管中,是由AMICA和

Achen大學於2007年所報道的採用S

iO2為電介質[27]的頂

柵石墨烯晶體管,如圖3所示。在接下來的三年中,石

墨烯晶體管的截止頻率已經從幾個GHz 提高到

100GHz[28]。這都歸因於制造技術的改善,從而可以減

小柵極長度,並且使用電介質,當向石墨烯進行噴鍍時,

不會摧毀原子晶格,不會引入使遷移率降低的缺陷。此

外,在石墨烯薄片上制作的石墨烯FET現已被IBM團隊

在文獻[28]中所報道的在整個圓晶片上制作的石墨烯FET

而替代。人們可在文獻[29]和[30]中找到其它有關微波用

FET石墨烯晶體管方面的重要成果。

我們的石墨烯FET晶體管示於圖4(a)和(b)中。為了

制作這個晶體管,Graphene Industries公司將一個單層石

墨烯薄片噴鍍到在高阻性硅基上生長的300nm的SiO2上。

有一個很奇怪的事實是,從HOPG上剝離下來的石墨烯

的質量超過外延生長法甚至CVD法制備的石墨烯,但對

此所作出的解釋卻是非常簡單的。剝離式石墨烯是一個

天然石墨烯片,並且具有較低的缺陷率, 而採取任何方


December 2010 IEEE microwave magazine 85


法所生成的石墨烯則伴隨著高得多的缺陷密度。 文獻

[26]詳細地介紹了我們設計的晶體管的制作過程,在此

不再贅述。它將不同的噴鍍技術與電子束刻版相結合。

我們還使用了一種有機柵極介電材料 - 一層聚甲基丙烯

酸甲酯(PMMA)。石墨烯FET的相應尺寸為:柵極長

L

G=200nm,源極-漏極之間的間隔距離L=2μ,源極/漏

極的寬為40 μ。在直到5GHz下,可以測得最大的穩定

增益大於1,而截止頻率則要大8倍。截止頻率值是在考

慮了這個特定的雙柵極版本的幾何尺寸后按照適用於

FET的傳統定義來計算的。遷移率是根據漏極電流與柵

極電壓的特性來確定的,在室溫下為8,000cm

2/Vs,距離

狄拉克點很遠。這個值比在硅中的值要大8倍。

石墨烯在微波中的其它應用為倍頻器[31],雖然這

方面的進展比石墨烯FET的進展要慢得多。


結論

石墨烯納米電子器件是一個新興的研究領域。A.Geim和

K.Novoselov[1]由於發現了石墨烯出人意料的物理特性

而獲得了2010年度的諾貝爾物理獎,從而為納米電子學,

納米光學, 以及固體物理學領域中諸多新的應用鋪平了

圖4 (a)採用聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate)

作為介電柵極的微波石墨烯場效應管。(b)整個晶體管的

頂視圖。(轉載自文獻[26] ,經許可后使用。Copyright

2010, American Institute of Physics。)

圖5 圖4所示的場效應管最大的穩定增益。

道路。研究最多的微波器件是石墨烯晶體管[15],在經

過了僅僅三年的時間之后,其截止頻率已經達到了

100GHz。這種令人驚訝的發展的結果是, 有關0.5-

1THz石墨烯晶體管很快就會出現這個預言不久將被証明

是相當現實的。此外,人們預期,石墨烯倍頻器和其它

微波石墨烯器件將會跟隨石墨烯FET的開發勢頭,在幾

年之后便可以達到100GHz。


致謝

作者在此感謝由羅馬尼亞教育和研究部(Ministry of

Education and Research of Romania ) 以及歐洲LEA

SMART MEMS實驗室(European Laboratory LEA SMART

MEMS )對NANO-HF項目所提供的經費支持。Alina

Cismaru 還要感謝區域運作計劃人力資源開發項目

( Sectoral Operational Programme Human Resource

Development-SOPHRD) 在合同POSDRU/89/S/63700 中

所給予的支持。作者感謝Graphene Industries公司制備了

他們在研究中所使用的石墨烯。


參考文獻

[1] A. K. Geim and K. S. Novoselov, “he rise of graphene,”

Nat. Mater., vol. 6, no. 3,

pp. 183–91, Mar. 2007.

[2] K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, V. Zhang, S. V. Dubonos,

I. V. Grigorieva, and A. A. Firsov, “lectric field effect in atomically thin carbon

films,”

Science, vol. 306, no. 3696, pp.666–69, Oct. 2004.

[3] P. Blake, E. W. Hill, A. H. Castro Neto, K. S. Novoselov, D. Jiang, R. Yang, T. J.

Booth, and A. K. Geim, “aking graphene visible,”

Appl. Phys. Lett., vol. 91, no. 6,

pp. 063124/1–, Aug. 2007.

[4] D. S. Abergel, A. Russel, and V. I. Fal’o, “isibility of a grapheme flake on a

dielectric substrate,”

Appl. Phys. Lett., vol. 91, no. 6, pp. 063125/1–, Aug. 2007.

[5] J. Kim, F. Kim, and J. Huang, “eeing graphite-based sheets,”

Mater. Today, vol.

13, no. 3, pp. 28–8, Mar. 2010.

[6] Z. H. Ni, H. M. Wang, J. Kasim, H. M. Fan, T. Yu, Y. H. Wu, Y. P. Feng, and Z. X.

Shen, “raphene thickness determination using reflection and contrast

spectroscopy,”

Nano Lett., vol. 7, no. 9, pp.2758–763, Sept. 2007.

[7] C. Soldano, A. Mahmood, and E. Dujardin, “roduction, properties and potential of

graphene,”

Carbon, vol. 48, no. 8, pp. 2127–150, July 2010.

由於石墨烯可以調諧到

50Ω阻抗,因此它是可

以用於微波應用中的納米材料,明白了這一點

后,我們已經開始構建一個射頻石墨烯晶體

管。


IEEE microwave magazine December 86 2010


[8] J. Haas, W. A. de Heer, and E. H. Conard, “he growth and the morphology of

epitaxial multilayer graphene,”

J. Phys. Matter, vol.20, no. 32, pp. 323202/1–7,

Aug. 2008.

[9] V. C. Tung, M. J. Allen, Y. Yang, and R. C. Kaner, “igh-throughput solution

processing of large-scale graphene,”

Nat. Nanotechnol., vol.4, no. 1, pp. 25–8, Jan.

2009.

[10] K. V. Milaninia, M. A. Baldo, A. Reina, and J. Kong, “ll grapheme

electromechanical switch fabricated by chemical vapour deposition,”

Appl. Phys.

Lett.


, vol. 95, no. 8, pp. 183105/1–, Nov. 2009.

[11] J. H. Ahn, B. H. Hong, S. Bae, H. Kim, Y. Lee, X. Xu, J.-S. Park, Y. Zheng, J.

Balakrishnan, T. Lei, H. R. Kim, Y. Song, II, Y.-J. Kim, K. S.Kim, B. Ozyilmaz,

and S. Iijima, “oll-to roll production of 30 inch graphene films for transparent

electrodes,”

Nat. Natechnol., vol. 5, pp. 574–78, June 2010.

[12] X. Du, I. Skachko, A. Barker, E. Y. Andrei, “pproaching ballistic transport in

suspended graphene,”

Nat. Nanotechnol., vol. 3, no. 8, pp. 491–95, Aug. 2008.

[13] C. Lee, X. Wei, J. W. Kysar, and J. Hone, “easurement of elastic properties of

monolayer graphene,”

Science, vol. 321, no. 5887, pp.385–88, July 2008.

[14] D. Dragoman and M. Dragoman,

Quantum Classical Analogies. New York:

Springer-Verlag, 2004.

[15] F. Schwierz, “raphene transistors,”

Nature Nanotechnology, vol.5,pp. 487–96,

May 2010.

[16] E. W. Hill, A. K. Geim, K. Novoselov, F. Schedin, and P. Blake, “raphene spin

valve devices,”

IEEE Trans. Magn., vol. 42, no. 10,pp. 2644–696, Oct. 2006.

[17] T. Mueller, F. Xia, and P. Avouris, “raphene photodetectors for high speed

optical communications,”

Nat. Photon., vol. 4, no. 5, pp.297–01, May 2010.

[18] T. Ihn, J. Gttinger, F. Molitor, E. Schurtenberg, A. Jacobson, A. Hellmler, T.

Frey, S. Dr飉cher, C. Stampfer, and E. Ensslin, “raphene single electron

transistors,”

Mater. Today, vol. 13, no. 3, pp.44–0, Mar. 2010.

[19] J. Wu, H. A. Becerril, Z. Bao, Z. Liu, Y. Chen, and P. Peumans, “rganic solar

cells with solution-processed graphene transparent electrodes,”

Appl. Phys. Lett., vol.

92, no. 26, pp. 263302/1–, June 2008.

[20] C. Rutherglen, D. Jain, and P. Burke, “anotube electronics for radiofrequncy

applications,”

Nat. Nanotechnol., vol. 4, no. 11, pp.811–19, Nov. 2009.

[21] K. Jensen, J. Weldon, H. Garcia, and A. Zettl, “anotube radio,”

Nano Lett., vol.

7, no. 11, pp. 3508–511, Nov. 2007.

[22] C. Rutherglen, D. Jain, and P. Burke, “0 V resistance and inductance of

massively parallel single walled carbon nanotubes: Direct, broadband measurement

and near perfect 50 V matching,”

Appl. Phys. Lett., vol. 93, no. 8, p. 083119, Aug.

2008.

[23] G. Deligeorgis, M. Dragoman, D. Neculoiu, D. Dragoman, G. Konstantinidis, A.

Cismaru, and R. Plana, “icrowave propagation in graphene,”

Appl. Phys. Lett., vol.

95, no. 7, pp. 073107/1–, Aug. 2009.

[24] D. Neculoiu, G. Deligeorgis, M. Dragoman, D. Dragoman, G. Konstantinidis, A.

Cismaru, and R. Plana, “lectromagnetic propagation of graphene in the mm-wave

frequency range,”to be presented at

European Microwave Conf., Paris, France, Sept.

2010.

[25] M. Dragoman and D. Dragoman, “raphene-based quantum electronics,”

Prog.

Quant. Electron.


, vol. 33, no. 6, pp. 165–14, Nov. 2009.

[26] G. Deligeorgis, M. Dragoman, D. Neculoiu, D. Dragoman, G. Konstantinidis, A.

Cismaru, and R. Plana, “icrowave switching of graphene field effect transistor at

and from the Dirac point,”

Appl. Phys. Lett., vol. 96, no. 10, pp. 103105/1–, Mar.

2010.

[27] M. C. Lemme, T. Echtermayer, M. Baus, and H. Kurz, “ grapheme field effect

device,”

IEEE Electron Device Lett., vol. 28, no. 4, pp. 282–84, Apr. 2007.

[28] W. Lin, C. Dimitrakopoulos, K. A. Jenkins, D.-B. Farmer, H.-Y.Chiu, A. Grill,

and P. Avouris, “00 GHz transistor from waferscale epitaxial graphene,”

Science,

vol. 327, no. 5966, p. 662, Feb. 2010.

[29] I. Meric, N. Baklitskaya, P. Kim, and K. Shepard, “F performance of top-gated ,

zero-bandgap graphene field-effect transistor,”in

Proc. IEEE Electron Devices

Meeting


, San Francisco, Dec.15–7, 2008, pp. 1–.

[30] I. Meric, M. Y. Han, A. F. Young, B. Ozyilmaz, P. Kim, and K. L. Shepard,

“urrent saturation in zero-bandgap, top-gated grapheme field-effect

transistors,”

Nat. Nanotechnol., vol. 3, no. 11, pp.654–59, Nov. 2008.

[31] H. Wang, D. Nezich, J. Kong, and T. Palacios, “raphene frequency

multipliers,“

IEEE Electron Device Lett., vol. 30, no. 5, pp. 547–49, May 2009.

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